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台积电3nm工艺步入正轨,2024下半年将如期投产N3P节点

发表时间:2024-7-1 15:34:45 阅读量: 来源: 深圳市微电晶半导体有限公司

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台积电最新3nm工艺节点已接近量产,将于2024年下半年投入生产。该工艺节点基于N3E工艺节点进一步提高了能效和晶体管密度。台积电表示,N3E工艺节点的良率已经与成熟的5nm工艺相当。

据悉,台积电高管表示,N3P工艺节点的质量验证已经完成,其良品率可以接近于N3E。作为一种光学微缩工艺,N3P在IP模块、设计规则、EDA工具和方法方面兼容N3E。因此,整个过渡过程非常顺利。

N3P的关键优势在于其带来的增强规格。与N3E相比,在相同功耗下性能提升约4%,在匹配时钟下功耗降低约9%。对于由逻辑、SRAM和模拟元件组成的典型芯片设计,晶体管密度也提高了4%。

补充一点:本文所描述的台积电(TSMC)3nm工艺节点是指其在半导体制造领域中使用的技术,而不是指具体型号或规格的手机等产品。


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